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报导进一步表示，世界第 8 大芯片设备制造商 Nikon 在 24 日指出，已经在荷兰、德国和日本针对生产半导体光刻机的荷兰厂商 ASML 和旗下光电供应商 Carl Zeiss 提起了专利侵权案件。Nikon 在一份声明中指出，ASML 和 Carl Zeiss 在没有得到许可的情况之下，采用了 Nikon 的专利技术，运用在 ASML 的光刻机中。而光刻机是用在全球的半导体制造业中先进制程不可缺少的设备，如此以进一步侵犯了 Nikon 的专利。Nikon 表示，正在寻求损害赔偿，并防止 ASML 和 Carl Zeiss 出售该技术。
目前在全球的半导体设备市场中，ASML 主导半导体光刻机的产品。根据惠誉评级 （Fitch Ratings） 在 2017 年 1 月份的一份研究报告中指出，这家荷兰公司在这样的高端的半导体设备中，占有 90% 的市场占有率。而根据 ASML 在 19 日所公布的 2017 年第 1 季财报显示，第 1 季营收净利达 19.4 亿欧元，毛利率为 47.6%，EUV 极紫外光微影系统的未出货订单则累积到 21 台，价值高达 23 亿欧元。而且预估 ASML 在 2017 第 2 季营收净利将落在 19 到 20 亿欧元之间，毛利率约为 43% 到 44%。
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进口项目部：潘美丽（emily）
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