CO2激光器应用--极深紫外激光（EUV）产生的种子源

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       发现LPP光源产生极深紫外激光（EUV）需要用CO2激光器的过程：

        （1）为了制造集成度更高的电路，人们在积极寻找下一代光刻(NGL)光源。目前工业界确定的下一代光刻光源是波长为13.5nm的极端远紫外(EUV)光源，它能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸，理论上可达22nm以下。
        （2）尽管目前实验型的EUV曝光光刻设备使用的是低功率辉光放电等离子体（DPP）光源，但是它不能够满足大规模量产的需求。而激光等离子体（LPP）光源由于其具备高功率输出的优势最有希望担负起EUV光刻技术量产的大任。
        LPP光源产生EUV（波长：13.5nm）的原理在于用激光照射在包括氙、锡或锂在内的原材料，通过激发可以得到高能电离等离子体。通过研究各种不同激光波长和被照射原材料的组合，最后发现CO2激光与锡液体微滴靶的组合具有最佳的转换效率。因此，一套具有实际生产价值的EUV光源系统必须包括CO2激光器、锡液体微滴生成器、收集光路和碎屑过滤消除装置等部分。